半導体大手マイクロンテクノロジーの日本法人の新たな建物を建設する工事の起工式が4日、広島県東広島市で行われました。

4日、東広島市のマイクロンメモリジャパン広島工場で、新たなクリーンルームを建設する工事の起工式が開かれました。マイクロンは2029年度にかけ半導体の次世代DRAMと、HBMと呼ばれるAI向け高性能メモリーを広島工場で量産する計画です。この計画に1兆5000億円を投じ、経産省が最大5360億円を助成します。

赤沢亮正　経産大臣
「マイクロンは我が国でDRAMを製造している唯一の企業で、これまでに広島を中心に3兆円を超える投資を行うなど、我が国の半導体供給力の強化にとって極めて重要な存在」

新たに建設されるクリーンルームに製造装置が搬入されるのは、2028年後半の予定だということです。